国家知识产权局信息显示,FEI公司申请一项名为“用于样品制备的方法和系统”的专利,公开号CN121263672A,申请日期为2024年6月。
专利摘要显示,在由显微镜系统中的样品台保持样品的同时,铣削该样品以暴露样品内的感兴趣区域(ROI)。基于用样品图像确定的ROI地点来铣削该样品,样品图像用从不同轴照射的光束获取。在使用同一样品台保持样品以进行铣削的同时,获取样品图像。
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来源:市场资讯
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