国家知识产权局信息显示,FEI公司申请一项名为“张量模板匹配”的专利,公开号CN121970093A,申请日期为2024年9月。
专利摘要显示,一种对目标粒子的张量模板进行模板匹配以识别断层图像内的该目标的实例的方法包括:获得目标粒子的张量模板,其中张量模板利用张量场描述目标粒子在所有旋转下的形状;以及使用张量模板来识别断层图像内的目标粒子的实例。
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来源:市场资讯
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