国家知识产权局信息显示,FEI公司申请一项名为“由厚HPF样品进行薄片准备”的专利,公开号CN121208038A,申请日期为2025年6月。
专利摘要显示,本申请涉及用于制备样品的技术。提供了一种方法,包括使离子束朝向样品的第一表面,以对该第一表面进行第一暴露处理。该样品可以限定该第一表面以及与该第一表面相对的第二表面。该方法可以包括使该样品相对于带电粒子束系统的射束轴B旋转角度β,以使第二表面的取向设定为接收离子束。该方法可以包括使离子束朝向该样品的第二表面。该方法可以包括使该样品相对于射束轴B旋转,以使第一表面的取向设定为接收离子束。该方法还可以包括使离子束朝向该样品的第一表面,以对该第一表面进行第二暴露处理。
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