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原标题：“韬定律”的产业长跑刚刚开始

【创新谈】

◎崔 爽

近日，华为正式发布“韬（τ）定律”，提出以“时间缩微”替代“几何缩微”作为半导体演进的指导原则。作为6年突围实践的系统总结，这一提法迅速引发强烈关注。

摩尔定律的物理边界之“墙”已清晰可见，路径选择是摆在整个半导体行业面前的命题。更早直面这堵“墙”的华为，给出的解法就是“韬定律”。

作为中国企业首提的半导体演进新原则，“韬定律”另起炉灶，对半导体进行器件、电路、芯片、系统四层的协同优化。过去6年，华为基于这一范式设计并量产了381款芯片，奠定实证支撑。

也正因此，对于长期处于“追赶叙事”的国内半导体产业来说，这一提法具有特殊意义——从“你定规则我来追”，追先进制程、追国际大厂，到“我来提出路线，邀请世界验证”。

在媒体采访中，华为公司董事、半导体业务部总裁何庭波表示：“有人可能三天后就加入我们的行列，也有人可能要等三五年，我们都欢迎，需要更多的实践来证明，希望大家能一起把这件事做得更好。”

这是一次信心宣示，更是一份面向产业的公开邀约。至此，真正的产业长跑开始了。

摩尔定律之所以被奉为圭臬，不是因为戈登·摩尔当年的精彩论述，而是之后数十年，整个半导体产业链，从光刻机公司、材料方、EDA（电子设计自动化）工具、设计厂商到代工厂，因循这一定律持续投资、共同迭代，才将其从经验观察上升为行业契约。

如今，一家中国公司基于长期实践，提出一套新方法论，力求开辟一条自主创新的产业新路。这一新路，不止于单点技术突破，而要在多层技术之间形成闭环，包括架构设计水平、软硬协同效率、先进封装技术等。

方向已经明确，要把这条突围之路走成阳关大道，则需要产业链的生态共建、坚定投入。

比如，芯片设计所依赖的EDA工具需随之演进。“韬定律”主导下的芯片设计不再是二维平面的优化，而是三维结构的堆叠，如同“盖平房”转向“起高楼”。但现有主流EDA工具，基本围绕平面设计的逻辑发展而来。要适应新的三维搭建方式，需要对底层工具进行升级，比如重新设计布局布线方法、改进验证手段等，这相当于把工具链重写一遍。

基于“韬定律”，华为已经积累了逻辑折叠、芯粒封装等全栈技术工具，未来需要以开放、可复用的方式将其分享给产业界，让不同厂商“说同一种语言”，从而更好实现协同，加快生态建设进程。

可以想见，这将是一场考验定力与耐力的“换道长跑”。这条路有多长、最终将抵达何方，需要半导体产业共同回答。

原标题：“韬定律”的产业长跑刚刚开始 来源：科技日报