首次！我国芯片领域取得新突破
创始人
2025-10-26 17:41:50
0次
光刻技术是推动集成电路芯片制程工艺持续微缩的核心驱动力之一。近日，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为，指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案。相关论文近日刊发于《自然·通讯》。
“显影”是光刻的核心步骤之一，通过显影液溶解光刻胶的曝光区域，将电路图案精确转移到硅片上。光刻胶如同刻画电路的颜料，它在显影液中的运动，直接决定电路画得准不准、好不好，进而影响芯片良率。长期以来，光刻胶在显影液中的微观行为是“黑匣子”，工业界的工艺优化只能靠反复试错，这成为制约7纳米及以下先进制程良率提升的关键瓶颈之一。
为破解难题，研究团队首次将冷冻电子断层扫描技术引入半导体领域。研究人员最终合成出一张分辨率优于5纳米的微观三维“全景照片”，一举克服了传统技术无法原位、三维、高分辨率观测的三大痛点。
彭海琳表示，冷冻电子断层扫描技术为在原子/分子尺度上解析各类液相界面反应提供了强大工具。深入掌握液体中聚合物的结构与微观行为，可推动先进制程中光刻、蚀刻和湿法清洗等关键工艺的缺陷控制与良率提升。
相关内容
热门资讯
这场“马拉松”，不跑步，只读书...
扬子晚报网10月26日讯（记者 赵天 通讯员 韩佳岑）10月25日，“2025长三角阅读马拉松大赛”...
李子成、姚玉舟夺全程冠军！20...
10月26日7:30，唐山安居集团2025唐山马拉松在唐山市抗震纪念碑广场鸣枪起跑。选手奔跑的脚步汇...
视频丨李成钢：中美就关税等多项...
当地时间10月25日至26日，中美在马来西亚吉隆坡举行经贸磋商。中国商务部国际贸易谈判代表兼副部长李...
现场沉浸式感受辽宁铁人冲超现场...
现场沉浸式感受辽宁铁人冲超现场 李金羽被球员抛向空中
B费提前观察+巧妙漏球 助姆伯...
B费提前观察+巧妙漏球 助姆伯莫完成破门
实拍赛后王大雷霸气上演“we ...
实拍赛后王大雷霸气上演“we are one”
联赛仍未破荒！维尔茨本赛季9场...
联赛仍未破荒！维尔茨本赛季9场英超依旧0球0助
8千余名选手畅跑2025重庆涪...
10月26日上午8:00，“武陵山大裂谷杯”2025重庆涪陵白鹤梁半程马拉松在长江之畔的重庆涪陵锦绣...