光刻过程（图片来源：ASML）

钛媒体App 6月25日消息，浙江省绍兴市越城区融媒体中心官方账号“越城发布”24日公布一篇题为《国产光刻机工厂落户越城》的文章，介绍了总投资约50亿元人民币的上海图双精密装备项目落户绍兴市越城区的消息。

越城区融媒体中心称，该项目计划分两期实施：一期计划投资约5亿元，一期占地面积35亩，用于转移及扩大公司目前在上海的产能；二期计划投资约45亿元。两期将实现年产50-100台半导体设备的目标。项目正在建设中，预计2025年投产。

这是近年来，国内地方机构官方层面罕见披露的光刻机设备相关消息。

据悉，光刻机（Mask Aligner)，又名掩模对准曝光机，是芯片制造流程中光刻工艺的核心设备。光刻工艺是将掩膜版上的几何图形转移到晶圆表面的光刻胶上。光刻胶处理设备把光刻胶旋涂到晶圆表面，再经过分步重复曝光和显影处理之后，在晶圆上形成需要的图形。

实际上，芯片的制造流程极其复杂，而光刻工艺是制造流程中最关键的一步，光刻确定了芯片的关键尺寸，在整个芯片的制造过程中约占据了整体制造成本的35%。因此，光刻机又被誉为芯片制造中“皇冠上的明珠”。

目前，光刻机最先进的技术主要来自荷兰的ASML（阿斯麦）、日本的尼康、佳能三大国际大厂，尤其是最为先进的EUV（极紫外）光刻机，全世界仅有ASML一家能够提供，其零件数量超过45万个。

对于国内光刻机领域，众多晶圆代工和制造企业仍需通过进口来满足集成电路产业发展的需求，因此，国产光刻设备一直处于“卡脖子”状态，尤其是第五代光刻机13.5nm波长的EUV，中国企业难以进口。

根据ASML年报数据，截至2022年底，ASML总共出货182台EUV光刻机，主要客户包括英特尔、三星、台积电、美光和SK海力士。

然而，需要提醒的是，上海图双并非大家所认为的“国产光刻机厂商”，其主要业务是做半导体设备翻新和调试。

上海图双精密装备有限公司（上海图双）董事长钟敏透露，该公司不仅能根据市场需求研发生产国产光刻机，也能对国外光刻机进行定制化改造、调试。目前，上海图双的技术能力和资源已覆盖ASML、尼康、佳能三家公司的6英寸、8英寸、12英寸光刻机，能按照不同的芯片产品特性及工艺进行设备再制造、技术匹配、工艺调试等定制化服务。

（本文首发于钛媒体App，作者｜林志佳，编辑｜胡润峰）